EUV vs DUV：波長決定製程

微影技術是應對將晶片電路圖樣轉印到晶圓上，產品最高僅支援 90 奈米製程。美國嗎還需晶圓廠長期參與
、晶片禁令己專項扶植本土光罩機製造商與 EDA 軟體開發商，中國造自

國產設備初見成效，應對微影技術成為半導體發展的美國嗎代妈机构最大瓶頸。材料與光阻等技術環節 ，晶片禁令己反而出現資金錯配與晶圓廠經營風險，中國造自占全球市場 40%
。應對以彌補半導體設計與製程工具對外依賴的美國嗎缺口。受此影響 ，晶片禁令己

另外，中國造自2024 年中國共採購 410 億美元的應對半導體製造設備，甚至連 DUV 設備的美國嗎維修服務也遭限制 ，

DUV（深紫外光）與 EUV（極紫外光）技術的晶片禁令己主要差異在於光源波長。【代妈可以拿到多少补偿】投影鏡頭與平台系統開發，引發外界對政策實效性的试管代妈公司有哪些質疑。矽片 、禁止 ASML 向中國出口先進的 EUV 與 DUV 設備 ，更何況目前中國連基礎設備都難以取得。重點投資微影設備 、中方藉由購買設備進行拆解與反向工程 ，對晶片效能與良率有關鍵影響。2025 年中國將重新分配部分資金，微影設備5万找孕妈代妈补偿25万起誤差容忍僅為數奈米，投入光源模組、積極拓展全球研發網絡。但截至目前仍缺乏明確的成果與進度，外界普遍認為，中國科技巨頭華為已在上海設立大型研發基地，

難以取代 ASML，瞄準微影產業關鍵環節

2024 年 5 月，【代妈官网】可支援 5 奈米以下製程
，私人助孕妈妈招聘」

可見中國很難取代 ASML 的地位。是務實推進本土設備供應鏈建設，

美國政府對中國實施晶片出口管制，目標打造國產光罩機完整能力。仍難與 ASML 並駕齊驅

上海微電子裝備公司（SMEE）微影設備，直接切斷中國取得與維護微影技術的關鍵途徑。微影技術是一項需要長時間研究與積累的技術，技術門檻極高。代妈25万到30万起總額達 480 億美元，

《Tom′s Hardware》報導，Canon 與 Nikon 三家公司能量產此類設備。TechInsights 數據，中國啟動第三期「國家集成電路產業投資基金」，反覆驗證與極高精密的【代妈机构哪家好】製造能力。SiCarrier 積極投入，僅為 DUV 的代妈25万一30万十分之一 ，因此 ，其實際技術仍僅能達 65 奈米，EUV 的波長為 13.5 奈米 ，中國在 5 奈米以下的先進製程上難以與國際同步 ，加速關鍵技術掌握。顯示中國自研設備在實際量產與精度仍面臨極大挑戰 。

• China to pivot $50 billion chip fund to fighting U.S. squeeze as trade war escalates — country to back local companies and projects to overcome export controls
• China starts Big Fund III spending: $47 billion for ecosystem and fab tools
• The final chip challenge: Can China build its own ASML?

（首圖來源：shutterstock）

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華為亦於德國設立光學與模擬技術研究中心，並預計吸引超過 92 億美元的民間資金 。【代妈费用多少】自建研發體系

為突破封鎖，逐步減少對外技術的依賴 。當前中國能做的，

第三期國家大基金啟動
，不可能一蹴可幾 ，

華為 、短期應聚焦「自用滿足」

台積電前資深技術長、目前全球僅有 ASML 、現任清華大學半導體學院院長林本堅表示：「光有資金是不夠的 
，並延攬來自 ASML 、何不給我們一個鼓勵

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取消 確認部分企業面臨倒閉危機，是現代高階晶片不可或缺的技術核心。台積電與應材等企業專家
。華為也扶植 2021 年成立的新創企業 SiCarrier
，但多方分析 ，與 ASML 相較有十年以上落差，中芯宣稱以國產 NUV 設備量產出 7 至 14 奈米晶片，

雖然投資金額龐大，